二氧化硅牙齿高级填充物纳米分散机，塑料牙制纳米分散机，二氧化硅纳米分散机，气相二氧化硅纳米分散机，高固含纳米二氧化硅分散机

CMD2000研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。

AEROSIL®气相法二氧化硅可用于制造复杂的齿科材料的配方中以达到高的填充量。这主要归功于经过后处理的AEROSIL®气相法二氧化硅，其增稠效果低，从而提供了高填充性的可能AEROSIL®DT 4通过结构改性可以随意引入塑料牙制作配方中，几乎不影响材料的流变性。添加AEROSIL®R 711可以得到特别坚固的复合物，这种经过后处理的气相法二氧化硅有很强的增稠作用，加入少量就能够影响流变性。AEROSIL ®OX 50因其宽的粒度分布而用于齿科塑料的基本材料。在制造复合材料时，AEROSIL®气相法二氧化硅对塑料牙齿、填充物、镶饰物及牙冠的颜色没有任何不利的影响。

纳米材料分散 

目前，XX产品质量较好的企业使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本满足用户的需要。由于我们行业的特点，有相当多的中小企业分散设备十分落后，分散时根本形成不了剪切力，只是一种搅拌，气相二氧化硅在树脂中根本形成不了网状结构，从而无法发挥材料的性能。造成这种情况的主要原因① 尚未对分散的作用有正确的认识．许多生产商并未意识到分散的重要性；② 不知道对*终产品的品质如何评价，

    研磨时间对粉体产品细度的影响一般而言，研磨时间越长，则研磨效果越好，

但颗粒的细化达到一定程度则很难再进一步细化。因为随着颗粒粒度的减小，比表面积迅速增大，颗粒表面激活点增多，表面自由能增大，体系处于极不稳定状态，微细颗粒间则彼此团聚形成“假颗粒”，以降低比表面积；若再延长研磨时间，输入体系的能量则用于粉碎“假颗粒”，“假颗粒”粉碎后又很快重新团聚，整个体系处于团聚—磨细的动态平衡中，从而大大降低了研磨能力和效率。

分散剂对粉体产品细度的影响

在超细研磨过程中，一方面物料颗粒接受施能被粉碎，另一方面被磨细颗粒因表面能增大又极易

团聚在一起，形成“假颗粒”，“假颗粒”被粉碎后又团聚。因此在研磨进行到一定程度时，过程已处于团聚—磨细的动态平衡中，研磨效率大大降低。分散剂是湿法超细研磨中的重要调节因素。对于超细磨，添加一定量的分散剂以后，因与物料间的吸附作用，改变了颗粒间的相互依从状态，使细颗粒物料保持分散状态，分散剂并能吸附在物料表面降低表面能，改善浆料的流变性，使研磨效率提高

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国产设备转速的4-5倍。

在做纳米粉体分散或研磨时，因为粉体尺度由大变小的过程中，范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响，是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米级粉体研磨及分散关键技术。
    

CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。