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产品详情
 工艺改进型硫酸钡溶液研磨分散机
 工艺改进型硫酸钡溶液研磨分散机的图片
参考报价:
118900元
品牌:
IKN
关注度:
970
样本:
暂无
型号:
CMD2000
产地:
德国
信息完整度:
典型用户:
全国各地
工作原理:
立式
物料类型:
其它
认证信息
金牌会员 第 4
名 称:上海依肯机械设备有限公司
认 证:工商信息已核实
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产品简介

工艺改进型硫酸钡溶液研磨分散机,改进型硫酸钡胶体磨,硫酸钡研磨机,硫酸钡溶液研磨胶体磨,碳酸钙高速研磨分散机,化工固液混合研磨机,

IKN研磨分散机是将胶体磨和胶体磨一体化的设备,效果远远好于单台胶体磨处理的效果,研磨胶体磨是一台目前zui新型的研磨分散设备。

  硫酸钡,适用于上、下消化道造影。无臭、无味粉末,密度4.25-4.5,分解温度>1600℃。溶于热浓硫酸,几乎不溶于水、稀酸、醇。水悬浮溶液对石蕊试纸呈中性。

  对于硫酸钡溶液的生产,目前许多厂家采用国产胶体磨生产,由于国产胶体磨本身转速较低为2930转,生产出来的硫酸钡溶液粒径一般在20μm左右,而且生产效果很低,需要研磨5-6小时。而使用IKN研磨分散机进行处理,研磨两遍,粒径可以细化到5μm,效果好,效率高。



  

改进型硫酸钡胶体磨,硫酸钡研磨机,硫酸钡溶液研磨胶体磨,碳酸钙高速研磨分散机,化工固液混合研磨机由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,同时,可将电机能量更有效地转化为尺寸减小力,从而在粉末研磨和精细化学粉碎方面ling先于其他同行业设备。被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。


  改进型硫酸钡研磨分散机的特点:

  ①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

  ②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

  ③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

  ④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

  ⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。


当所处理的物料要达到非常细,分散程度高的时候,对于设备的要求就会非常的高。而从设备角度来考虑的话,能够达到超细的效果,要具备以下条件:
 

1、XX的剪切力,CMSD2000系列研磨分散机转速高达14000rpm,线速度为44m/s,是普通设备的4-5倍。

2、高经密度的定转子,超细研磨分散机的定转子分为两级,一级为胶体磨磨头,采用三级错齿结构,磨头的沟槽的深度角度都符合流体力学的设计。第二级是分散头,IKN分散头有六种不同的规格,从粗到细,越来越密,分散效果佳。

3、机械密封,超细的效果取决于高的转速,而转速越高机械密封的发热量就会越大,设备的机械密封是否能够耐的住这么高的转速,国nei大多数厂家的机械密封是wu法承受的,上海依肯CMSD系列采用的是德国双端面集装箱式机械密封。当有持续的冷冻水提供给机械密封时,设备可24小时连续生产。


CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm


线速度

m/s


功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD 2000/4

300

14000


41


4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500


41


11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200


41


22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900


41


45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850


41


90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100


41


160

DN200/DN150

 

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

 硫酸钡溶液改进型工艺研磨分散机,改进型硫酸钡胶体磨,硫酸钡研磨机,硫酸钡溶液研磨胶体磨,碳酸钙高速研磨分散机,化工固液混合研磨机,

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