2.2KW纳米胶体磨,纳米高速胶体磨,德国纳米胶体磨,14000转胶体磨,21000转高速胶体磨，德国IKN纳米胶体磨，纳米立式胶体磨，纳米高剪切胶体磨，德国进口纳米胶体磨，纳米管线式胶体磨

IKN胶体磨它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。

IKN纳米胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。 比普通的胶体磨快4-5倍

纳米粉体的分散是基础研究领域和工业技术部门普遍遇到的课题，其应用日益广泛，如化工、医药、涂料、材料、食品等。分散技术不仅是提高产品质量和性能及提高工艺效率不可缺少，而且是十分重要的技术手段。

但是由于纳米粉体粒度小，极易产生自发凝并，表现出强烈的聚团特性，不论在空气中还是在液相中均易生成粒径较大的二次粉体，聚团的结果导致纳米粉体材料性能的严重劣化。另一方面，在复合材料的制备过程中，由于纳米粉体的这种强烈团聚特性和它与复合基体材料的极性差异，纳米粉体很难均匀地分散在基体材料中形成均质复合材料，是复合材料的性能难以达到人们预期的效果。            
   

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所以为了解决这一问题，各种类型的分散设备应运而生，粉体的分散、混合与均化在粉体技术中有三个目的。其一是使团聚粉体的碎解和分散，尽力使团聚粉体达到单粉体分散；其二是在粉体制备过程中由于各部分或前后生产的产品的成分或粒度不均匀，而在使用时需要性能均一的粉体材料，为了消除各部分性能上的差异，需要对粉体材料进行分散、混合与均化处理；其三是，有些粉体材料需要进行改性处理，为了保证改性处理的均一性，也需要进行分散、混合与均化处理。

IKN纳米胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液、纳米悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM2000在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。
              
IKN纳米胶体磨结构：三道磨碎区：一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。

我们的磨头的结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

CM2000系列高剪切胶体的特点：

1、定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
2、齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
3、沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

胶体磨在设计上的突出优点在于：

1、转速14000rpm，相较其它厂家2900转左右高出约三倍：

2、磨头结构更精密并有独特设计,使之研磨作用力更大，效果更好。

3、德国进口双端面机械密封拥有独特结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。

4、CM2000/4中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同，中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到更低。

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