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白炭黑的表面改性就是利用一定的化学物质通过一定的工艺方法使其与白炭黑表面上的羟基发生反应消除或减少表面硅醇基的量接枝或包覆其他化学物质使产品由亲水性变为疏水以达到改变表面性质的目的。
主要改性方法如下:
(1)表面活性剂改性采用钛酸酯偶联剂、硬脂酸或硬脂酸盐等覆盖在粒子表面改变粒子的部分性能
(2)硅烷偶联改性采用有机基团取代白炭黑的表面羟基使其有机硅烷化。
(3)包覆改性在粒子周围均匀地包覆一层其它物质的膜。
白炭黑具有特殊的表面结构( 带有表面羟基和 吸附水) 、 特殊的颗粒形态( 粒子小, 比表面积大等) 和独特的物理化学性能, 广泛应用于橡胶、 塑料、 涂 料、 医药、 日用化工诸多领域. 然而, 由于白炭黑内部的聚硅氧和外表面存在 的活性硅醇基及其吸附水, 使其呈亲水性, 在有机 相中难以湿润和分散, 而且, 由于其表面存在羟基, 表面能较大, 聚集体总倾向于凝聚。
IKN改性白炭黑胶体磨,是IKN公司研发出来的新品,是由胶体磨和分散机组合而成的。将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。白炭黑既可以有效分散,又可以防止团聚。
改性白炭黑胶体磨是由胶体磨、乳化分散机组合而成的高科技产品。
**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。
此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,*小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
改性白炭黑在设计上的突出优点在于:
1、转速**可达14000转,相较其它厂家2900转左右高出约三倍:
2、磨头结构更精密并有独特设计,使之研磨作用力更大,效果更好。
3、德国进口双端面机械密封拥有独特结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。
4、CMD2000/5中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同,中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整,从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到*低。
咨询热线:13795214885 贾清清 微信同手机号 公司有样机可供客户购前实验,欢迎广大客户来我司参观指导!
IKN采用**的零部件,并倾尽全力将其优化组合,制成各方面都卓然出众的艺术级工业化产品。这需要多年的经验积累,以及技术沉淀,更重要的是将经验和技术转化为创新的能力。
CMD2000研磨机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。
CMD2000研磨机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到**允许量的10%
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