德国IKN实验室立式胶体磨，研发用实验室胶体磨，高剪切实验室胶体磨，高速实验室胶体磨，9000转实验室胶体磨，14000转实验室胶体磨，21000转实验室胶体

IKN实验室胶体是我司专为各大院校、科研单位和工厂实验室所设计的一款小型分散设备，带有转数数字显示，无机调速，可24小时不停机运行，运行稳定，噪音小，操作方便，易清洗，易拆卸，是实验室*理想的设备之选。

实验室胶体磨的特点 CM2000/4实验室胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4实验室胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4实验室胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。 
 
 实验室胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。咨询热线：13795214885 贾清清  微信同手机号  公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导！
 
 公司另外一项独特的创新，就是锥体磨CMO2000系列，它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。
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胶体磨磨头介绍：

研磨头表面涂料一层及其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理，这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径，研磨头处形成了一个具有较强的剪切区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和*后粒径大小的效果都很理想。

胶体磨技术优势：

1、只进行阀门切换，泵和磨连续运行，真正实现不间断生产 。

2、可据用户需要加工定制，所有型号均预留有外接接口，可扩展其功能及产量，既可固定式建厂生产也可移动式现场生产。

3、有手动/自动一体和手动两种控制模式。

4、可生产超高含量的改性乳化沥青（SBS含量≥4%，沥青含量≥65%）。

5、可生产超高含量的改性沥青（SBS含量≥12%）。

6、现场指导安装、操作，提供**化、Zuixian进的生产工艺和配方。

胶体磨的基本原理：
　　胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸 入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物 料重新压入精磨区进行研磨破碎，精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一 级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之 后，从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的*小细度可达0.5um。

　　胶体磨是流体或半流体物料通过高速相对连动的定齿与动齿之间，使物料受到强大的剪切力，磨擦力及高频振动等作用，有效地被粉碎、乳化、均质、混合，从而获得满意的精细加工的产品。

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