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高定向热解石墨烯胶体磨,高定向热解石墨烯研磨分散机,石墨烯高剪切研磨分散机,石墨烯高速剥离设备,IKN研磨分散机,德国进口研磨分散机
高定向热解石墨是热解石墨经高温高压处理后制得的一种新型石墨材料。其性能接近单晶石墨。主要应用于X射线单色器、中子滤波器和单色器、石墨基本性能研究、大尺寸石墨层间化合物基础研究、石墨烯制备研究等领域中。
站在宏观的角度,石墨烯已经被证明有那么多优异的性质,在现今材料突破的方向发展**是正确的。但在微观的角度来看,先前因为石墨烯制备困难,业者认为性价比太低没有意愿参与,现在可以量产了,上海依肯有限公司根据市场前景,研发出石墨烯胶体磨,该设备**转速可达14000rpm,是普通胶体磨的4-5倍,剪切更高,分散效果更好。
IKN胶体磨CMD2000系列特别适合于胶体溶液、超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,CMD在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。CMD2000整机采用先进几何机构的研磨定转子,更好的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。IKN胶体磨结构:三道磨碎区:一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区。
高定向热解石墨烯胶体磨磨头的结构:
沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下,而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大,这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
CMD2000系列高剪切胶体磨的特点:
1、定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
2、齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
3、沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
IKN的CMD2000系列胶体磨和国内胶体磨相比:
三级结构 | 磨头结构 | 转速 | **线速度 | 模块头 | 密封类型 | 产品效果 | |
国内设备 | 沟槽是直线,同级的沟槽深度一样 | 沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下 | 目前是不通过变频器来调节,若通过变频调节,他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM(这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。) | 大约在10-15M/S | 只有一种模块头 | 单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁 | 粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差 |
IKN 上海依肯 | 沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅 | 斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大 | 可以通过变频调速,转速可达7890/13789RPM ,通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍,研磨的力度也是他们的3-4倍,这样研磨的细度更小) | 23-40 M/S | 可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CMD胶体模块,CMDO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块 | 双机械密封,易于清洗,将泄漏降至*低,可24小时不停运转 | 可实现1-10微米小粒径材料加工 |
CMD2000系列高剪切胶体磨选型表:
型号 | 流量 L/H | 输出转速 rpm | 线速度 m/s | 马达功率 KW | 出/入口连接 |
CMD2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CMD2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注:流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同事流量可以被调节到**允许量的10%
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